BRUKER低温红外硅材料中C、O及B、P等的检测

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BRUKER低温红外硅材料中C、O及B、P等的检测 在半导体生产过程中的质量控制领域,硅材料中 C、O 及B、P 等杂质分析是一个非常关注的课题。布鲁 克公司可根据具体的应用要求,为使用者提供一系列的仪器配置与分析方法。下面对此作一简要的介绍: 1. 此类分析方法的基本情况描述 早在上个世纪的八十年代初,布鲁克公司就已经根据这方面的应用需求开始着力进行硅材料(单晶和多晶) 中C、O 及B、P、As……等杂质含量方法及仪器配置的研究与发展。经过二十多年的不断完善与发展,特 别是通过国内外诸多相关企业的应用实践,我们已经形成了一整套不同工作原理、不同分析手段、不同应 用条件、适应多种应用要求的系列解决方案,并可根据使用者的具体情况灵活加以配置。对于上述所提及 的含量分析,最低可检测的浓度可达几个ppta 的水平。到目前为止,世界上和国内的多家大型半导体生产 企业和研究单位分别采用了我们提供的不同的解决方案,如Hemlok、Wacker Chemie、MEMC、LG、浙 大硅材料国家重点实验室、及国内的一批多晶硅生产企业(名略),……等等。 2. 几种可能的配置方案 我们知道,B、P 等杂质的吸收特征主要分别出现在319cm-1 和316cm-1 附近(如图3),它们属于远红外区 域。您已经知道,在远红外区域密布着H2O 和CO2 的吸收峰(如图1,图中最右侧区域为远红外区域)。这 些吸收峰不仅分布密度很高,且其吸收强度还随着样品附近的环境的变化而随时变化,而我们需要检测的 B、P 等杂质吸收又非常弱,这样就出现了两种情况:1)水的吸收太强了就会淹没我们要测的有用的信号; 2)如果水等干扰的强度不断地变化,就没有办法确定杂质的含量。 m77n|4[/pan]

阅读:3469 | 评论:28网友评论:

  • jiangchuanwu 发表于 2019-4-10 06:11:46
    确实是难得好帖啊,讓我涕流滿面,頂頂一起下吧先
  • eric_dwj 发表于 2019-3-23 06:55:39
    确实是难得好帖啊,讓我涕流滿面,頂頂一起下吧先
  • zgh1234 发表于 2019-3-6 22:43:24
    這麼好的帖子都沒有人頂!d=====( ̄▽ ̄*)b,我來多頂頂樓主
  • HymanZhao 发表于 2019-2-18 09:36:50
    这个資源一般般,不過我喜歡
  • 【网络小虫】 发表于 2019-2-2 14:40:13
    這麼好的帖子都沒有人頂!d=====( ̄▽ ̄*)b,我來多頂頂樓主

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